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在半導(dǎo)體生產(chǎn)中，光刻機是核心設(shè)備，不僅決定了芯片制造的工藝水平，也是耗時最多、成本最高的一步，目前先進的7nm、5nm及接下來的3nm都需要EUV光刻機，一臺售價將近10億人民幣，目前還是供不應(yīng)求。
EUV光刻機目前只有荷蘭ASML公司可以生產(chǎn)，他們的產(chǎn)能將決定全球先進工藝擴張的速度，日前ASML公司高級副總裁Christophe Fouquet在高盛會議上確認，將增加EUV光刻機的產(chǎn)能。
他們原本預(yù)計在2025年的時候EUV年產(chǎn)能是70臺，現(xiàn)在決定提升到每年90臺，有助于緩解產(chǎn)能不足的問題。
今年Q2季度還沒結(jié)束，ASML公司就收到了超過100臺EUV光刻機的訂單，這已經(jīng)大大超過了他們的產(chǎn)能，今年該公司計劃出貨EUV光刻機不過55臺，只能滿足一半的訂單量，客戶都要排隊等待。
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